半导体行业MOCVD工艺或者LCD溅射CVD工艺中，精确的气体分配和气体质量流量控制都是十分关键的技术。
Key Physical Parameters in Semiconductor
分
配
气体质量流量控制
控制的关键点之一是控制分配阀前端管道的压力值保持稳定。
实际使用过程中，任一管道流量的突然变化都会对其他管道产生压力波动影响，从而影响流量控制结果。此情景类似于在用热水器洗澡的时候，旁边的水龙头被打开了，你第一时间就感受到了压力变化，甚至有些时候温度变化，你会记忆更深刻些。而在MOCVD工艺以及其他类似应用工艺中，这些气体质量流量变化必须控制一定的范围内，以免产生过大的废品率。
压
力
自动压力调节控制
压力自动调节阀
于是，采用一个响应快速，精确控制的自动压力调节阀就成了最佳选择。
上图中采用UR高速自动压力调节阀和传统的压力控制方式，可以很明显地看到压力控制区别以及后续气体质量流量控制效果。
黑色爬坡下坡实线为主管道初级压力波动曲线，浅蓝色实线为控制后的次级压力波动曲线，黑色波浪线为气体质量流量控制器输出的实际流量波动曲线。在相同的气体流量应用工艺中，采用相同的气体质量流量控制器，使用了高速自动压力调节阀控制的次级压力非常稳定，并且气体质量流量控制器控制的气体输出也更稳定，基本消除了较大的流量控制偏差。
压
力
测
量
高速压力调节阀采用
进行压力测量
采用模拟信号输出的紧凑型85/86系列压力晶圆 快速准确的压力测量为高速准确的压力自动调节提供稳定信号支持。
快速测量：10%至90%频响 0.1mS；
工作温度范围：-40~125°C；
补偿温度范围：-20~85°C；
接液材质：316L兼容气体和液体；
过载能力：3倍满量程；
长期稳定性：±0.10%FS每年；